1on1興櫃訂閱 5/1 歐都納、創控、關稅談判、頌勝、神數、立盈等 9 篇↩️

1on1上市櫃訂閱 4/24 昶瑞、昕奇、生合、大立光、中興電與關稅三部曲等 11 篇↩️

1on1生技訂閱 4/9:台耀化學、視航生醫、禾榮科、威力德 等 4 篇↩️

5/1:歐都納↩️  4/26:創控科技↩️ 4/24:昶瑞機電↩️ 4/20:昕奇雲端↩️ 4/16:生合↩️ 4/14:大立光 ↩️ 4/13 中興電↩️ 4/11-2Q25台股+中國找盟友↩️ 4/9 台耀化學↩️  4/8:崧騰↩️  4/5:關稅反擊or談判↩️  4/3:關稅與台股↩️  3/30:頌勝↩️  3/27:神數↩️

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無塵室AMC監測成長,創控再擬攻製程微環境設備 Apr 2025(全)

By Harris, 26 四月, 2025

  創控科技(代號 6909)是做半導體廠務 AMC 監測設備,及 ⑵ 環境 AMC 監測設備廠。在 ⑴ 半導體廠務客戶包含重要晶圓代工廠,與記憶體知名大廠,在⑵ 社區環境監測設備以美國客戶為主。創控董事長暨總經理王禮鵬指出,半導體公司對 AMC 污染的應對,可粗略分為「檢測」、「防治」、「去除」等 3 方面,創控業務是集中在「檢測/監測」方面。AMC 微污染『防治』同業例子如華景電6788)、京鼎3413)等,而『去除』則例如做化學濾網的濾能6823)等等廠商,各公司有各自專注市場。王禮鵬認為,公司在無塵室廠務 AMC 監測設備有了成績,近七年公司營收 CAGR 有 20%,未來會再開發 near-wafer(晶圓製程端/設備內微環境監測設備)商機,蓄積公司下一波成長動能。

  晶圓先進製程一向重視晶圓的良率 。在生產晶圓的潔淨室環境的污染監測,是攸關良率的重點工作。創控執行廠內環境 VOCs 等污染性的有機氣體監測領域深耕十幾年。未來想要再開發半導體設備內微環境 AMC 監測,是公司未來的潛力市場。

在半導體發源地矽谷累積技術背景;創控 2013 年首度推出設備,累積迄今有 500 筆接案實績:

  創控總經理王禮鵬及技術長周宗冠之前服務於美國公司英特爾總部,負責微系統/微機電(以半導體產品作為感測器);王禮鵬專長在工程材料,周宗冠是電子電機工程背景。公司技術累積從美國矽谷開始,在 2010 年在台灣新北創立了公司。2013 年首度推出產品後,2014 年就打入台積電2330),2017 年設備應用在環境監測。2020 年導入美國聯邦政府環保署,2021 年成為美光供應設備商。

與實驗室設備同業差異?AMC 監測設備如何觀察?

  創控監測設備跟傳統實驗室分析儀的特性差異? 5 項軟硬體模組的優勢、怎麼發揮?在內文的第(三)、(四)節,以重點方式逐項講解,對創控這家公司不會「霧裡看花」。

  同時,半導體設備範圍太廣泛。所以,拿全球千億美元設備產值金額,來對比創控的營運或成長性,並沒有拆解其營運方向效果。因此,內文第(八)節會聚焦於 AMC 監測設備市場產值,及公司下一步想開始更細部的的「設備環境微環境監測」設備在哪一個場域。檢視創控這家公司不再「水中撈月」,而是聚焦「有效數字範圍的市場」。

  本篇全篇文章〔創控 問答〕有 2 字頭高位數討論,分為營運市場與競爭財務產品相關、半導體脈動與展望等 5 個面向。以財務與產品的 27% 比例最高。營運、市場競爭、產品相關等三個則平均比例、都為 19%。

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(一)創控基本資料 & 半導體應用之說明:

  1. 員工接近 130 位,其中,碩博士占比 43%,研發技術人員占 46%。
  2. 事業發展處副總蕭敬霖,事業發展處處長吳惠芳,皆創控自己培養主管,兩人皆逾 10 年經驗、了解客戶與市場。並延攬研發人才董為劭、是研發處副處長。
  3. 有 2 大應用領域:⑴ 半導體產業監測,⑵ 環境監測。
    • ⑴ 半導體用途:潔淨室微汙染管控 • 晶圓製造良率提升 • 化學濾網品質把關 • 工廠周圍空汙自檢。→ 簡單說,目的是提高半導體製造良率。
    • 半導體監測客戶:○○電、○光。
    • ⑵ 環境監測:環保法規指定監測 • 社區環境空氣監測 • 工廠區域排放監測。→ 簡單說,目的是監測對人群是否造成健康影響。
    • 環境監測客戶:美國客戶。
  4. 【起因】:AMC(氣體分子污染物)若出現在半導製程環境裡,容易卡住晶圓上線路。尤以先進製程如 5 奈米、3 奈米製程因線路更細、越容易被 AMC 微污染氣體分子卡住,進而影響晶圓良率。
    • 空氣中普遍存在「氣體分子」顆粒大小約 0.3-1.5 nm,會影響到 5 奈米、3 奈米製程晶圓之線距,就定義是微污染物 AMC 。
  5. 晶圓廠場域分上、中、下 3 層,上層回風層(plenum)是空氣置換、確保空氣潔淨。中層無塵室(cleanroom)製造晶圓。下層廠務層(sunfab)是水電廠務配置層。
  6. 【AMC 跟晶圓廠「迴風系統」關聯性】:回風層(plenum)1 個小時內有超過 10 次置換率,透過「化學濾網」過濾 AMC。
  7. 【設備功能之一:監測哪裡洩漏?】上層回風層(plenum)濾網 MAU(外氣空調箱)與 FFU(過濾模組)。專有名詞參考連結:◎無塵室空調設備說明◎
    • 放在這些監測點,為監測 AMC 洩漏來源。→ 找出洩漏點之後,再以另一種設備去處理去除 AMC。
  8. 【設備功能之二:監測化學濾網是否該更換?】監測無塵室空間中的污染氣濃度是否升高至影響到產線人員健康。換句話說,創控設備得到的監測數據,是化學濾網是否要更換的標準。
  9. 【AMC 從何產生而來?】來自 ① 廠房建材釋出,② 廠外空氣(因換氣)飄入,③ 製程所需化學溶劑散發出來。早期檢測出 AMC 有酸氣、鹼氣、VOCs 污染物,後期又有更多種 AMC 氣體被檢出。
    • 創控將檢測到 AMC 、按不同客戶產業別,再整理出有害氣體污染物清單,做服務該產業別資料庫;更能有效為不同業種半導體客戶「監測/捉出」多種 AMC

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